等离子体横向刻蚀硅的特性研究

研究了用SiO2 +Al作掩模 ,SF6 +O2 混合气体等离子体对Si的横向刻蚀 ,其结果表明 ,在SF6 +O2 等离子体气氛中 ,Al是很好的保护膜 ,可以在待悬浮器件下形成大的开孔。因此 ,预计用这种技术 ,可以在Si片上集成横向尺寸为数百微米 ,具有优良高频性能的MEMSRF/MW无源器件 ,如开关、传输线、电感和电容等。     

紫外激光烧蚀金属Al靶诱导等离子体的发射光谱研究

通过测定紫外激光烧蚀Ａｌ靶诱导等离子体的发射光谱，研究了激光烧蚀Ａｌ靶的溅射过程和烧蚀环境气体对发射光谱强度的影响，提出电子碰撞激发模型，定性解释了烧蚀环境气体对等离子体发射光谱的增强效应。     

基于L298N芯片对离子渗氮中压强的控制

离子渗氮工艺对炉体内压强的控制要求比较高，本文设计了一种基于L298N芯片驱动直流电动机控制的气体流量控制器，可用于控制反应炉的抽气气体流量，提高了炉体压强控制精度，降低了生产成本。     

直流非转移弧等离子喷枪中电弧的工作特性研究

利用计算机数值模拟技术，采用有限容积方法，针对自制的低能耗、高效率内送粉等离子喷涂设备，对喷枪内部电弧长度及其对流体特性的影响进行了分析研究。结果表明，通过增加进气流量和减少电流的大小，均使得等离子电弧长度增加，阳极弧根位置逐渐向下游移动，但是产生这两种现象的机理以及对气流温度和速度的影响是不同的。     

基于B点磁探针膛内电枢电弧长度与速度分布测量的计算机控制系统的研究

基于B点磁探针的测量原理，建立了电磁轨道炮膛内三维等离子体电枢电弧长度和电弧运动速度测量的数学模型，通过对该模型的分析给出了用于测量膛内电枢电弧长度和运动速度分布的相应推论。开发了用于测量膛内等离子体电枢电弧长度和速度的多通道计算机控制诊断系统，并进行了相应的试验研究。     

等离子喷涂燃料电池连接板LSM薄膜的性能研究

采用等离子喷涂法在SUS 430连接板基体上制备了LSM(La0.8 Sr0.2 MnO3)薄膜。用X射线衍射仪、扫描电镜和电子探针分别研究了喷涂前后LSM的相组成、薄膜的表面形貌和元素分布。用图像分析法计算了薄膜的孔隙率。二支点法测量了有与无LSM薄膜的SUS 430基体在130～800℃时的电导率。结果发现,薄膜与基体结合良好,薄膜孔隙细小,均匀分布,且非连通;LSM的相组成在喷涂前后保持一致;当温度<330℃时,有LSM保护膜的连接板的电导率小于无LSM薄膜的连接板的电导率;温度>330℃,结果相反。有LSM保护膜的连接板在空气中,130～800℃下,最大电导率为0.60Ω-1·cm-1。     

Surface tailoring of an ethylene propylene diene elastomeric terpolymer via plasma‐polymerized coating of tetramethyldisiloxane

In the research presented here, we explore the use of a low‐energy plasma to deposit thin silicone polymer films using tetramethyldisiloxane (TMDSO) (H(CH₃)₂? Si? O? Si? (CH₃)₂H) on the surface of an ethylene propylene diene elastomeric terpolymer (EPDM) in order to enhance the surface hydrophobicity, lower the surface energy and improve the degradation/wear characteristics. The processing conditions were varied over a wide range of treatment times and discharge powers to control the physical characteristics, thickness, morphology and chemical structure of the plasma polymer films. Scanning electron microscopy (SEM) shows that pore‐free homogeneous plasma polymer thin films of granular microstructure composed of small grains are formed and that the morphology of the granular structure depends on the plasma processing conditions, such as plasma power and time of deposition. The thicknesses of the coatings were determined using SEM, which confirmed that the thicknesses of the deposited plasma‐polymer films could be precisely controlled by the plasma parameters. The kinetics of plasma‐polymer film deposition were also evaluated. Contact angle measurements of different solvent droplets on the coatings were used to calculate the surface energies of the coatings. These coatings appeared to be hydrophobic and had low surface energies. X‐ray photoelectron spectroscopy (XPS) and photoacoustic Fourier‐transform infrared (PA‐FT‐IR) spectroscopy were used to investigate the detailed chemical structures of the deposited films. The optimum plasma processing conditions to achieve the desired thin plasma polymer coatings are discussed in the light of the chemistry that takes place at the interfaces. Copyright © 2004 Society of Chemical Industry     

微波等离子体化学气相沉积的 a-Si∶H 性能研究

本文着重对微波等离子体化学气相沉积法高速沉积的 a-Si∶H 膜的物理性能进行评价研究.测量了沉积膜的光电性能、暗电导激活能、光禁带宽度、光吸收特性、沉积膜中悬键态密度以及氢含量等,并讨论沉积条件对膜性能的影响.结果表明,在沉积速率高达30～90(?)/s 情况下,膜的光电导(光照强度10~5Lux)与暗电导比值可达10~3～10~5,暗电导率从10~(-3)到10~(-11)((?)cm)~(-1),其激活能在0.23～0.88eV 之间(0～200℃温度范围内),光禁带宽度为1.40～2.20eV,氢含量约为2～20%.     

窄禁带N型掺杂HgCdTe中自由载流子的奇特性质

研究已表明掺杂HgCdTe中不存在对于自由载流子等离子体振荡的朗道阻尼,本文进一步研究了HgCdTe掺杂及随之产生的简并对自由载流子能量色散关系的影响,并将这种影响计入自由载流子的介电函数后,从理论上证明了掺杂窄禁带半导体中不存在朗道阻尼的现象是由于自由载流子能量色散关系变化引起其运动行为变化所致。     

三维PDP放电过程数值模拟软件

介绍了三维PDP放电过程模拟软件，该软件可较真实地反映放电单元的实际情况，对放电性能进行优化设计，且具有通用性强、界面友好、使用方便、功能完善等特点。可对不同结构、不同气体成份、不同驱动电压及波形等情况进行计算。